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查询Tags标签: 光刻胶,共有 2条记录
  • EUV极紫外光刻技术

    EUV极紫外光刻技术 (1)极紫外光 波长为 13.5nm 的极紫外 (EUV) 光刻系统的最新发展,以取代 193i 光刻。为了应对多图案成本上升的趋势,EUV 系统在曝光吞吐量(每小时晶圆数),曝光强度和系统正常运行时间方面已达到生产状态。如上图所示,业界正在积极开展研发工作,…

    2021/7/24 6:35:10 人评论 次浏览
  • EUV极紫外光刻技术

    EUV极紫外光刻技术 (1)极紫外光 波长为 13.5nm 的极紫外 (EUV) 光刻系统的最新发展,以取代 193i 光刻。为了应对多图案成本上升的趋势,EUV 系统在曝光吞吐量(每小时晶圆数),曝光强度和系统正常运行时间方面已达到生产状态。如上图所示,业界正在积极开展研发工作,…

    2021/7/24 6:35:10 人评论 次浏览
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